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Chemical Vapor Deposition for Nanotechnology

Vincent Astié, Cyril Millon, Jean-Manuel Decams and Ausrine Bartasyte
Chemical Vapor Deposition for Nanotechnology (2019)
https://doi.org/10.5772/intechopen.80244

Synthesis of multifunctional multiferroic materials from metalorganics

Manish K. Singh, Yi Yang and Christos G. Takoudis
Coordination Chemistry Reviews 253 (23-24) 2920 (2009)
https://doi.org/10.1016/j.ccr.2009.09.003

Nanocrystalline chromium-based coatings deposited by DLI-MOCVD under atmospheric pressure from Cr(CO)6

A. Douard and F. Maury
Surface and Coatings Technology 200 (22-23) 6267 (2006)
https://doi.org/10.1016/j.surfcoat.2005.11.043

High-Temperature Superconducting Materials with High Current-Carrying Characteristics and Methods of Their Fabrication

S. A. Pozigun, V. M. Pan, V. A. Alekseev, et al.
Uspehi Fiziki Metallov 5 (2) 167 (2004)
https://doi.org/10.15407/ufm.05.02.167

Self-tuning MOCVD approach to the growth of very smooth La1−xPbxMnO3 thin films

A.A Bosak, S.V Samoilenkov, O.Yu Gorbenko, A.N Botev and A.R Kaul
International Journal of Inorganic Materials 3 (8) 1097 (2001)
https://doi.org/10.1016/S1466-6049(01)00104-0

Perovskite rare-earth nickelates in the thin-film epitaxial state

M. A. Novojilov, O. Yu. Gorbenko, I. E. Graboy, et al.
Applied Physics Letters 76 (15) 2041 (2000)
https://doi.org/10.1063/1.126248

High quality YBa2Cu3O7 films grown on LaAlO3 by single source pulsed metalorganic chemical vapor deposition

A Abrutis, J.P Sénateur, F Weiss, et al.
Journal of Crystal Growth 191 (1-2) 79 (1998)
https://doi.org/10.1016/S0022-0248(98)00128-6

Deposition of Ta2O5/SiO2 multilayer films by a new process “injection MOCVD”

F. Felten, J.P. Sénateur, M. Labeau, K. Yu-Zhang and A. Abrutis
Thin Solid Films 296 (1-2) 79 (1997)
https://doi.org/10.1016/S0040-6090(96)09351-0