Réalisation d'un montage de projection pour l'ablation submicronique par laser à excimère

F. Weisbuch; S. Lazare

doi:doi:10.1051/jp4:1999551

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Numéro		J. Phys. IV France Volume 09, Numéro PR5, May 1999 4^e Colloque sur les Sources cohérentes et incohérentes UV, VUV et X Applications et développements récents


Page(s)		Pr5-171 - Pr5-172
DOI		https://doi.org/10.1051/jp4:1999551

4^e Colloque sur les Sources cohérentes et incohérentes UV, VUV et X
Applications et développements récents

J. Phys. IV France 09 (1999) Pr5-171-Pr5-172
DOI: 10.1051/jp4:1999551

Réalisation d'un montage de projection pour l'ablation submicronique par laser à excimère

F. Weisbuch and S. Lazare

Laboratoire de Physicochimie Moléculaire, UMR 5803 du CNRS, Université de Bordeaux I, 351 cours de la Libération, 33405 Talence, France

Résumé
Un montage de projection par laser à excimère KrF permet la mise en forme de faisceaux microscopiques et leur utilisation pour le micro-usinage par photoablation des surfaces de matériaux, en particulier des polymères. La lentille de projection, de grande ouverture numérique, conduit à une résolution submicronique.