Nanofabrication at a 10 nm length scale: Limits of lift-off and electroplating transfer processes

Numéro		J. Phys. IV France Volume 09, Numéro PR2, February 1999 6^èmes Journées Nationales de Microélectronique et Optoélectronique III-V (JNMO'97)


Page		Pr2-133
DOI		https://doi.org/10.1051/jp4:1999214

6^èmes Journées Nationales de Microélectronique et Optoélectronique III-V (JNMO'97)

J. Phys. IV France 09 (1999) Pr2-133
DOI: 10.1051/jp4:1999214

A.M. Haghiri-Gosnet, C. Vieu, G. Simon, M. Mejias, F. Carcenac and H. Launois

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