Journal de Physique IV

SiCN Amorphous Materials Chemical Vapour Deposited Using the Si(CH₃)₄-NH₃-H₂ System

A. Bendeddouche, R. Berjoan, E. Bêche, S. Schamm, V. Serin, R. Carles et R. Hillel

J. Phys. IV France, 05 C5 (1995) C5-793-C5-800

DOI: 10.1051/jphyscol:1995594

A. Bendeddouche

R. Berjoan

E. Bêche

S. Schamm

V. Serin

R. Carles

R. Hillel

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