Applications des plasmas produits par le laser à excimères HERCULES-L : du recuit du silicium à la lithographie par rayons X
, , , , , , , , , et al. (9 de plus)
J. Phys. IV France, 11 PR7 (2001) Pr7-133-Pr7-134
DOI: 10.1051/jp4:2001743