Journal de Physique IV

Room temperature SiO₂ films deposited by multipolar ECR PECVD

G. Isai, A. Kovalgin, J. Holleman, P. Woerlee et H. Wallinga

J. Phys. IV France, 11 PR3 (2001) Pr3-747-Pr3-753

DOI: 10.1051/jp4:2001394

G. Isai

A. Kovalgin

J. Holleman

P. Woerlee

H. Wallinga

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