Journal de Physique IV

A positron beam study of defects in SiO₂

M. FUJINAMI, N.B. CHILTON, K ISHII et Y. OHKI

J. Phys. IV France, 03 C4 (1993) C4-169-C4-175

DOI: 10.1051/jp4:1993423

M. FUJINAMI

N.B. CHILTON

K ISHII

Y. OHKI

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