Journal de Physique IV

Amorphous SiGe deposition by LPCVD from Si₂H₆ and GeH₄ precursors

J. Olivares, J. Sangrador, A. Rodríguez et T. Rodríguez

J. Phys. IV France, 09 PR8 (1999) Pr8-321-Pr8-325

DOI: 10.1051/jp4:1999839

J. Olivares

J. Sangrador

A. Rodríguez

T. Rodríguez

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