Journal de Physique IV

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Deposition of titanium nitride thin films at low temperatures by CVD using metalorganic and organometallic titanium compounds as precursors

C.I.M.A. SPEE, J.L. LINDEN, E.A. VAN DER ZOUWEN-ASSINK, K. TIMMER, F. VERBEEK, H.A. MEINEMA, D.M. FRIGO et S. VAN DER VEN

J. Phys. IV France, 03 C3 (1993) C3-289-C3-296

DOI: 10.1051/jp4:1993340

C.I.M.A. SPEE

J.L. LINDEN

E.A. VAN DER ZOUWEN-ASSINK

K. TIMMER

F. VERBEEK

H.A. MEINEMA

D.M. FRIGO

S. VAN DER VEN

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