Journal de Physique IV

PLASMA DEPOSITION OF SILICON NITRIDE

C. FAKIH, R.S. BES, B. ARMAS et D. THENEGAL

J. Phys. IV France, 02 C2 (1991) C2-413-C2-420

DOI: 10.1051/jp4:1991250

C. FAKIH

R.S. BES

B. ARMAS

D. THENEGAL

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