Journal de Physique IV

Plasma-Enhanced Chemical Vapour Deposition of Amorphous Se Films

P. Nagels, E. Sleeckx et R. Callaerts

J. Phys. IV France, 05 C5 (1995) C5-1109-C5-1115

DOI: 10.1051/jphyscol:19955131

P. Nagels

E. Sleeckx

R. Callaerts

articles ayant parmi leurs auteurs TOUS les auteurs sélectionnés (ET)

articles ayant parmi leurs auteurs AU MOINS un auteur identique à ceux sélectionnés (OU)