Journal de Physique IV

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Tin oxide APCVD thin films grown by SnCl₄ oxidation on glass and Si substrates in a cold wall reactor

A. Koutsogianni et D. Tsamakis

J. Phys. IV France, 11 PR3 (2001) Pr3-377-Pr3-383

DOI: 10.1051/jp4:2001348

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