Journal de Physique IV

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Fabrication of fine copper lines on AZ 5214^TM patterned silicon substrates by selective chemical vapor deposition

A.N. Gleizes, S. Vidal et D. Davazoglou

J. Phys. IV France, 11 PR3 (2001) Pr3-1197-Pr3-1201

DOI: 10.1051/jp4:20013151

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