Journal de Physique IV

Adhesion and leakage current characteristics of selective CVD tungsten films on the silicon substrate

C. LEE, Y.J. IM et J.G. LEE

J. Phys. IV France, 03 C3 (1993) C3-433-C3-440

DOI: 10.1051/jp4:1993360

C. LEE

Y.J. IM

J.G. LEE

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