Nouvel appareillage de diffraction X pour l'analyse de l'état mécanique (contraintes et microdéformations) de films minces nanocristallins Ph. Goudeau, K. F. Badawi, A. Naudon, M. Jaulin, N. Durand, L. Bimbault et V. BrangerJ. Phys. IV France, 06 C4 (1996) C4-187-C4-196DOI: https://doi.org/10.1051/jp4:1996417
