Deep etch lithography at LURE-D.C.I. storage ring
S. Megtert, A. Labèque, Liu Zewen, H. Dexpert, R. Comès, F. Rousseaux, M. F. Ravet, H. Launois, S. Ballandras, W. Daniau, S. Basrour, M. Rouillay, P. Blind et D. Hauden
J. Phys. IV France, 04 C9 (1994) C9-269-C9-272
DOI: https://doi.org/10.1051/jp4:1994947