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In situ laser recrystallization of Si layers during low-pressure chemical vapor deposition: Recrystallization dynamics and influence of the seed layer

D. Della Sala, A. Santoni, L. Fornarini, et al.
Journal of Materials Research 17 (11) 2966 (2002)
https://doi.org/10.1557/JMR.2002.0430