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Fundamental studies on the decomposition mechanism of Ti(OC₃H₇)₄ and TiO₂ film evolution on Si(100) and Pt(100) surfaces

S.-I. Cho, S.H. Moon, C.-H. Chung

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DOI: https://doi.org/10.1051/jp4:2001365

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Citations de cet article :

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TiO2 chemical vapor deposition on Si(111) in ultrahigh vacuum: Transition from interfacial phase to crystalline phase in the reaction limited regime

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Thin film growth of TiO2 and Ti2O3 by the new method of liquid injection CVD investigated using optical interferometry, XRD and AFM

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Thermal Decomposition of Ti(O-iPr)[sub 2](dpm)[sub 2] on Pt Foil

Yong Seok Cho, Sung-Il Cho, Jung Shik Heo, Jeong Chan Kim and Sang Heup Moon
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An ab initio study of titanium tetra-iso-propoxide (TTIP) adsorption mechanism on a Si(100) surface

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