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Citations de cet article :

CuInS2 films deposited by aerosol-assisted chemical vapor deposition using ternary single-source precursors

Michael H.-C. Jin, Kulbinder K. Banger, Jerry D. Harris and Aloysius F. Hepp
Materials Science and Engineering: B 116 (3) 395 (2005)
DOI: 10.1016/j.mseb.2004.05.043
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Metallorganic chemical vapor deposition of Ta2O5 films

A Porporati, S Roitti and O Sbaizero
Journal of the European Ceramic Society 23 (2) 247 (2003)
DOI: 10.1016/S0955-2219(02)00184-X
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Preparation of Magnéli phases of Ti27O52 and Ti6O11 films by laser chemical vapor deposition

Rong Tu, Guangsheng Huo, Teiichi Kimura and Takashi Goto
Thin Solid Films 518 (23) 6927 (2010)
DOI: 10.1016/j.tsf.2010.07.050
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MOCVD of YSZ coatings using β-diketonate precursors

V.G. Varanasi, T.M. Besmann, R.L. Hyde, E.A. Payzant and T.J. Anderson
Journal of Alloys and Compounds 470 (1-2) 354 (2009)
DOI: 10.1016/j.jallcom.2008.02.103
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High-speed oxide coating by laser chemical vapor deposition and their nano-structure

Takashi Goto and Teiichi Kimura
Thin Solid Films 515 (1) 46 (2006)
DOI: 10.1016/j.tsf.2005.12.022
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YSZ layers by pulsed-MOCVD on solid oxide fuel cell electrodes

Susan P Krumdieck, Orfeo Sbaizero, Angela Bullert and Rishi Raj
Surface and Coatings Technology 167 (2-3) 226 (2003)
DOI: 10.1016/S0257-8972(02)00908-8
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Step coverage of thin titania films on patterned silicon substrate by pulsed-pressure MOCVD

Vilailuck Siriwongrungson, Maan M. Alkaisi and Susan P. Krumdieck
Surface and Coatings Technology 201 (22-23) 8944 (2007)
DOI: 10.1016/j.surfcoat.2007.03.051
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Laser Chemical Vapor Deposition of Thick Oxide Coatings

Takashi Goto and Teiichi Kimura
Key Engineering Materials 317-318 495 (2006)
DOI: 10.4028/www.scientific.net/KEM.317-318.495
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