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Article cité :

MOCVD of KNbO3 Ferroelectric Films and their Characterization

M.V. Romanov, I.E. Korsakov, A.R. Kaul, S.Yu. Stefanovich, I.A. Bolshakov and G. Wahl
Chemical Vapor Deposition 10 (6) 318 (2004)
https://doi.org/10.1002/cvde.200306302

Epitaxial Stabilization of Oxides in Thin Films

O. Yu. Gorbenko, S. V. Samoilenkov, I. E. Graboy and A. R. Kaul
Chemistry of Materials 14 (10) 4026 (2002)
https://doi.org/10.1021/cm021111v