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Citations de cet article :

Atomic-order thermal nitridation of Si(100) and subsequent growth of Si

T. Watanabe, M. Sakuraba, T. Matsuura and J. Murota
Journal of Vacuum Science & Technology A: Vacuum, Surfaces, and Films 19 (4) 1907 (2001)
DOI: 10.1116/1.1359549
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Pattern-dependent microloading and step coverage of silicon nitride thin films deposited in a single-wafer thermal chemical vapor deposition chamber

Jacob W. Smith, Sean M. Seutter and R. Suryanaryanan Iyer
Journal of Vacuum Science & Technology B: Microelectronics and Nanometer Structures 23 (6) 2340 (2005)
DOI: 10.1116/1.2102947
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Flash-Enhanced Atomic Layer Deposition: Basics, Opportunities, Review, and Principal Studies on the Flash-Enhanced Growth of Thin Films

Thomas Henke, Martin Knaut, Christoph Hossbach, et al.
ECS Journal of Solid State Science and Technology 4 (7) P277 (2015)
DOI: 10.1149/2.0301507jss
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