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Article cité :

MOCVD of superconducting oxides, heterostructures and superlattices

F. Weiss, J.-P. Sénateur, J. Lindner, V. Galindo, C. Dubourdieu, A. Abrutis

J. Phys. IV France, 09 PR8 (1999) Pr8-283-Pr8-293

DOI: https://doi.org/10.1051/jp4:1999835

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Citations de cet article :

Growth of Dysprosium-, Scandium-, and Hafnium-based Third Generation High-κ Dielectrics by Atomic Vapor Deposition

C. Adelmann, P. Lehnen, S. Van Elshocht, et al.
Chemical Vapor Deposition 13 (10) 567 (2007)
DOI: 10.1002/cvde.200706604
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Chemical Physics of Thin Film Deposition Processes for Micro- and Nano-Technologies

G. Wahl, J. Arndt and O. Stadel
Chemical Physics of Thin Film Deposition Processes for Micro- and Nano-Technologies 145 (2002)
DOI: 10.1007/978-94-010-0353-7_7
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