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Citations de cet article :

Copper(I), silver(I) and gold(I) carboxylate complexes as precursors in chemical vapour deposition of thin metallic films

A. Grodzicki, I. Łakomska, P. Piszczek, I. Szymańska and E. Szłyk
Coordination Chemistry Reviews 249 (21-22) 2232 (2005)
DOI: 10.1016/j.ccr.2005.05.026
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Radical-Enhanced Atomic Layer Deposition of Silver Thin Films Using Phosphine-Adducted Silver Carboxylates

A. Niskanen, T. Hatanpää, K. Arstila, M. Leskelä and M. Ritala
Chemical Vapor Deposition 13 (8) 408 (2007)
DOI: 10.1002/cvde.200606519
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Low Temperature MOCVDof Conducting, Micrometer-Thick, Silver Films

S. Samoilenkov, M. Stefan, G. Wahl, et al.
Chemical Vapor Deposition 8 (2) 74 (2002)
DOI: 10.1002/1521-3862(20020304)8:2<74::AID-CVDE74>3.0.CO;2-B
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Chemical Physics of Thin Film Deposition Processes for Micro- and Nano-Technologies

G. Wahl, J. Arndt and O. Stadel
Chemical Physics of Thin Film Deposition Processes for Micro- and Nano-Technologies 145 (2002)
DOI: 10.1007/978-94-010-0353-7_7
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