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Citations de cet article :

Microwave plasma enhanced CVD of aluminum oxide films: OES diagnostics and influence of the RF bias

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Thin Solid Films 390 (1-2) 51 (2001)
DOI: 10.1016/S0040-6090(01)00924-5
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Physico-chemistry and morphology of silicon surface during the first stage of alumina deposition

P. Jonnard, J. Desmaison, H. Hidalgo, et al.
Applied Surface Science 212-213 674 (2003)
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Characteristics of Microwave Discharge in a Modified Surfaguide with a Large Diameter

Ding Zhen-Feng, P Tristant, J Desmaison, Dong Chuang and Wang You-Nian
Chinese Physics Letters 20 (10) 1792 (2003)
DOI: 10.1088/0256-307X/20/10/339
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