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Jürgen Röpcke, Richard Engeln, Daan Schram, Antoine Rousseau and Paul B. Davies Springer Series on Atomic, Optical, and Plasma Physics, Introduction to Complex Plasmas 59 315 (2010) https://doi.org/10.1007/978-3-642-10592-0_13
Plasma process monitoring of BCl3using high-resolution infrared laser absorption spectroscopy