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Article cité :

Recent Developments in Sputter-Deposited Ti-Ni-Base Shape Memory Alloy Thin Films

S. Miyazaki, K. Nomura, A. Ishida, S. Kajiwara

J. Phys. IV France, 07 C5 (1997) C5-275-C5-280

DOI: https://doi.org/10.1051/jp4:1997543

PDF (3.317 MB)

Citations de cet article :

Microstructure and shape memory behavior of Ti51.2(Pd27.0Ni21.8) and Ti49.5(Pd28.5Ni22.0) thin films

Takahiro Sawaguchi, Morio Sato and Akira Ishida
Materials Science and Engineering: A 332 (1-2) 47 (2002)
DOI: 10.1016/S0921-5093(01)01714-2
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In situ stress measurements and mechanical properties of a composition range of NiTi thin films deposited at elevated temperature

V.G. Kotnur and G.C.A.M. Janssen
Surface and Coatings Technology 211 167 (2012)
DOI: 10.1016/j.surfcoat.2011.10.047
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Martensitic transformation and shape memory behavior in sputter-deposited TiNi-base thin films

S Miyazaki and A Ishida
Materials Science and Engineering: A 273-275 106 (1999)
DOI: 10.1016/S0921-5093(99)00292-0
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Fabrication and Characterization of Freestanding NiTi Based Thin Film Materials for Shape Memory Micro-actuator Applications

Christoph Bechtold, Christoph Chluba, Christiane Zamponi, Eckhard Quandt and Rodrigo Lima de Miranda
Shape Memory and Superelasticity (2019)
DOI: 10.1007/s40830-019-00239-0
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Grain-size effect on shape-memory behavior of Ti35.0Ni49.7Zr15.4 thin films

Takahiro Sawaguchi, Morio Sato and Akira Ishida
Metallurgical and Materials Transactions A 35 (1) 111 (2004)
DOI: 10.1007/s11661-004-0114-8
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