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Article cité :

Reactivities of TaCl₅ and H₂O as Precursors for Atomic Layer Deposition

H. Siimon, J. Aarik

J. Phys. IV France, 05 C5 (1995) C5-277-C5-282

DOI: https://doi.org/10.1051/jphyscol:1995532

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Citations de cet article :

Crystallinity of inorganic films grown by atomic layer deposition: Overview and general trends

Ville Miikkulainen, Markku Leskelä, Mikko Ritala and Riikka L. Puurunen
Journal of Applied Physics 113 (2) (2013)
https://doi.org/10.1063/1.4757907

In situ study of atomic layer epitaxy growth of tantalum oxide thin films from Ta(OC2H5)5 and H2O

Kaupo Kukli, Jaan Aarik, Aleks Aidla, et al.
Applied Surface Science 112 236 (1997)
https://doi.org/10.1016/S0169-4332(96)00989-0