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Article cité :

Modelling of Precursor Flow and Deposition in Atomic Layer Deposition Reactor

H. Siimon, J. Aarik

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DOI: https://doi.org/10.1051/jphyscol:1995528

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Citations de cet article :

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A model-based methodology for the analysis and design of atomic layer deposition processes—Part I: Mechanistic modelling of continuous flow reactors

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Island growth as a growth mode in atomic layer deposition: A phenomenological model

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In situ study of atomic layer epitaxy growth of tantalum oxide thin films from Ta(OC2H5)5 and H2O

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