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Article cité :

Dépôt et calibration de multicouches pour l'optique XUV dans la gamme 10–30 nm

F. Delmotte, M.F. Ravet, F. Bridou, X. Song, A. Jerome, S. Boujdayane, S. Hubert, Ph. Zeitoun, M. Idir, P. Troussel

J. Phys. IV France, 108 (2003) 255-258

DOI: https://doi.org/10.1051/jp4:20030638

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Citations de cet article :

Broadband extreme ultraviolet multilayer mirror for supercontinuum light at a photon energy of 35-65 eV

Masatoshi Hatayama, Hisataka Takenaka, Eric M. Gullikson, Akira Suda and Katsumi Midorikawa
Applied Optics 48 (29) 5464 (2009)
https://doi.org/10.1364/AO.48.005464

Study of normal incidence of three-component multilayer mirrors in the range 20–40 nm

Julien Gautier, Franck Delmotte, Marc Roulliay, et al.
Applied Optics 44 (3) 384 (2005)
https://doi.org/10.1364/AO.44.000384