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Article cité :

The growth kinetics study of CVD Cu on TiN barriers

W. Pan, D.R. Evans, R. Barrowcliff, S.T. Hsu

J. Phys. IV France, 11 PR3 (2001) Pr3-23-Pr3-30

DOI: https://doi.org/10.1051/jp4:2001303

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Citations de cet article :

A combined molecular dynamics/Monte Carlo simulation of Cu thin film growth on TiN substrates: Illustration of growth mechanisms and comparison with experiments

Reza Namakian, Brian R. Novak, Xiaoman Zhang, Wen Jin Meng and Dorel Moldovan
Applied Surface Science 570 151013 (2021)
https://doi.org/10.1016/j.apsusc.2021.151013