Chloride atomic-layer chemical vapor deposition of TiO2 with a chloride pretreatment of substrates
J. Phys. IV France, 11 PR11 (2001) Pr11-103-Pr11-107
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Atomic layer deposition of Cr2O3 thin films: Effect of crystallization on growth and properties
Aivar Tarre, Jaan Aarik, Hugo Mändar, et al.Applied Surface Science 254 (16) 5149 (2008)
https://doi.org/10.1016/j.apsusc.2008.02.016