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Article cité :

Deposition of nanoscale rhodium dots by STM assisted CVD

F. Marchi, D. Tonneau, R. Pierrisnard, V. Bouchiat, V. Safarov, H. Dallaporta, P. Doppelt, R. Even

J. Phys. IV France, 09 PR8 (1999) Pr8-733-Pr8-739

DOI: https://doi.org/10.1051/jp4:1999892

PDF (1.505 MB)

Citations de cet article :

Localized and Programmable Chemical Vapor Deposition Using an Electrically Charged and Guided Molecular Flux

Johannes Reiprich, Nishchay A. Isaac, Leslie Schlag, et al.
ACS Nano 14 (10) 12885 (2020)
https://doi.org/10.1021/acsnano.0c03726

Direct patterning of noble metal nanostructures with a scanning tunneling microscope

F. Marchi, D. Tonneau, H. Dallaporta, et al.
Journal of Vacuum Science & Technology B: Microelectronics and Nanometer Structures 18 (3) 1171 (2000)
https://doi.org/10.1116/1.591354