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Article cité :

Carbon nitride films prepared by inductively coupled plasma chemical vapour deposition from a solid carbon source

C. Popov, M.F. Plass, W. Kulisch

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DOI: https://doi.org/10.1051/jp4:1999891

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Citations de cet article :

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The effect of d.c. substrate bias on the properties of nitrogen-rich CNx films

C. Popov, M.F. Plass, L.M. Zambov and W. Kulisch
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Optical, electrical and mechanical properties of nitrogen-rich carbon nitride films deposited by inductively coupled plasma chemical vapor deposition

C Popov, L.M Zambov, M.F Plass and W Kulisch
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