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Article cité :

MOCVD of electroceramic oxides : A precursor manufacturer's perspective

A.C. Jones, T.J. Leedham, J. Brooks, H.O. Davies

J. Phys. IV France, 09 PR8 (1999) Pr8-553-Pr8-560

DOI: https://doi.org/10.1051/jp4:1999869

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Citations de cet article :

CHARACTERISATION OF FERROELECTRIC PbZrXTi1-XO3(PZT) THIN FILMS PREPARED BY LIQUID-DELIVERY METALORGANIC CHEMICAL VAPOR DEPOSITION

S. MATICHYN, M. LISKER, M. SILINSKAS, B. GARKE and E. BURTE
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Precursor design for liquid Injection CVD of lead scandium tantalate thin films

Anthony C. Jones, Hywel O. Davies, Timothy J. Leedham, et al.
Integrated Ferroelectrics 30 (1-4) 19 (2000)
https://doi.org/10.1080/10584580008222249