Silver pivalate as a new volatile precursor for thin film deposition
J. Phys. IV France, 09 PR8 (1999) Pr8-923-Pr8-928
Article cité par
La fonctionnalité Article cité par… liste les citations d'un article. Ces citations proviennent de la base de données des articles de EDP Sciences, ainsi que des bases de données d'autres éditeurs participant au programme CrossRef Cited-by Linking Program. Vous pouvez définir une alerte courriel pour être prévenu de la parution d'un nouvel article citant " cet article (voir sur la page du résumé de l'article le menu à droite).
Article cité :
Citations de cet article :
Ligand Size and Carbon-Chain Length Study of Silver Carboxylates in Focused Electron-Beam-Induced Deposition
Jakub Jurczyk, Katja Höflich, Katarzyna Madajska, et al.Nanomaterials 13 (9) 1516 (2023)
https://doi.org/10.3390/nano13091516
Silver ionic compounds as a source of metal carriers in the gas phase
Katarzyna Madajska, Liliana Dobrzańska, Tadeusz Muzioł and Iwona B. SzymańskaPolyhedron 227 116149 (2022)
https://doi.org/10.1016/j.poly.2022.116149
Vacuum versus ambient pressure inert gas thermogravimetry: a study of silver carboxylates
Jakub Jurczyk, Cristiano Glessi, Katarzyna Madajska, et al.Journal of Thermal Analysis and Calorimetry 147 (3) 2187 (2022)
https://doi.org/10.1007/s10973-021-10616-6
Radical‐Enhanced Atomic Layer Deposition of Silver Thin Films Using Phosphine‐Adducted Silver Carboxylates
A. Niskanen, T. Hatanpää, K. Arstila, M. Leskelä and M. RitalaChemical Vapor Deposition 13 (8) 408 (2007)
https://doi.org/10.1002/cvde.200606519
Copper(I), silver(I) and gold(I) carboxylate complexes as precursors in chemical vapour deposition of thin metallic films
A. Grodzicki, I. Łakomska, P. Piszczek, I. Szymańska and E. SzłykCoordination Chemistry Reviews 249 (21-22) 2232 (2005)
https://doi.org/10.1016/j.ccr.2005.05.026
Low Temperature MOCVDof Conducting, Micrometer-Thick, Silver Films
S. Samoilenkov, M. Stefan, G. Wahl, et al.Chemical Vapor Deposition 8 (2) 74 (2002)
https://doi.org/10.1002/1521-3862(20020304)8:2<74::AID-CVDE74>3.0.CO;2-B
Chemical Physics of Thin Film Deposition Processes for Micro- and Nano-Technologies
G. Wahl, J. Arndt and O. StadelChemical Physics of Thin Film Deposition Processes for Micro- and Nano-Technologies 145 (2002)
https://doi.org/10.1007/978-94-010-0353-7_7