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Article cité :

Deposition of tungsten by plasma enhanced chemical vapour deposition

M.F. Bain, B.M. Armstrong, H.S. Gamble

J. Phys. IV France, 09 PR8 (1999) Pr8-827-Pr8-833

DOI: https://doi.org/10.1051/jp4:19998105

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Citations de cet article :

Nanostructured α/β-tungsten by reduction of WO3 under microwave plasma

K. Murugan, S.B. Chandrasekhar and J. Joardar
International Journal of Refractory Metals and Hard Materials 29 (1) 128 (2011)
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Measurements of absolute total and partial cross sections for the electron ionization of tungsten hexafluoride (WF6)

R. Basner, M. Schmidt and K. Becker
International Journal of Mass Spectrometry 233 (1-3) 25 (2004)
https://doi.org/10.1016/j.ijms.2003.10.014