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Article cité :

RMPECVD of silica films in large scale microwave plasma reactor : Films properties

F. Naudin, P. Tristant, M.C. Hugon, I. Jauberteau, B. Agius, J. Desmaison

J. Phys. IV France, 09 PR8 (1999) Pr8-819-Pr8-826

DOI: https://doi.org/10.1051/jp4:19998104

PDF (1.550 MB)

Citations de cet article :

Physico-chemistry and morphology of silicon surface during the first stage of alumina deposition

P. Jonnard, J. Desmaison, H. Hidalgo, et al.
Applied Surface Science 212-213 674 (2003)
https://doi.org/10.1016/S0169-4332(03)00021-7

Characteristics of Microwave Discharge in a Modified Surfaguide with a Large Diameter

Ding Zhen-Feng, P Tristant, J Desmaison, Dong Chuang and Wang You-Nian
Chinese Physics Letters 20 (10) 1792 (2003)
https://doi.org/10.1088/0256-307X/20/10/339

Microwave plasma enhanced CVD of aluminum oxide films: OES diagnostics and influence of the RF bias

P. Tristant, Z. Ding, Q.B. Trang Vinh, et al.
Thin Solid Films 390 (1-2) 51 (2001)
https://doi.org/10.1016/S0040-6090(01)00924-5