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Studies of pulse operation regime of microwave plasma CVD reactor

R.A. Akhmedzhanov, A.L. Vikharev, A.M. Gorbachev, V.A. Koldanov and D.B Radishchev
Diamond and Related Materials 11 (3-6) 579 (2002)
https://doi.org/10.1016/S0925-9635(01)00554-4

Pulsed plasma deposition from 1,1,2,2-tetrafluoroethane by electron cyclotron resonance and conventional plasma enhanced chemical vapor deposition

Catherine B. Labelle and Karen K. Gleason
Journal of Applied Polymer Science 80 (11) 2084 (2001)
https://doi.org/10.1002/app.1308