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Fabrication and Characterization of Single-Electron Transistors Based on Al/AlO_x/Al and Nb/AlO_x/Nb Tunnel Junctions

K. Blüthner, M. Götz, W. Krech, H. Mühlig, Th. Wagner, H.-J. Fuchs, D. Schelle, L. Fritzsch, B. Nachtmann, A. Nowack

J. Phys. IV France, 06 C3 (1996) C3-163-C3-167

DOI: https://doi.org/10.1051/jp4:1996325

PDF (1.203 MB)

Citations de cet article :

Anodization-free fabrication process for high-quality cross-type Josephson tunnel junctions based on a Nb/Al-AlO x /Nb trilayer

F Adam, C Enss and S Kempf
Superconductor Science and Technology 37 (8) 085013 (2024)
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Fabrication of mesoscopic superconducting Nb wires using conventional electron-beam lithographic techniques

Nam Kim, Klavs Hansen, Jussi Toppari, Tarmo Suppula and Jukka Pekola
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Characterization of all-chromium tunnel junctions and single-electron tunneling devices fabricated by direct-writing multilayer technique

H. Scherer, Th. Weimann, P. Hinze, et al.
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