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Article cité :

Interfaces in Silicides

F.M. d'Heurle

J. Phys. IV France, 06 C2 (1996) C2-29-C2-46

DOI: https://doi.org/10.1051/jp4:1996205

PDF (1.759 MB)

Citations de cet article :

Bimodal distribution of sub-micron titanium silicide contact resistance

A. Venezia, G. Testa, T. Del Buono and S. Wang
Journal of Applied Physics 112 (3) (2012)
https://doi.org/10.1063/1.4740470

Nanoscale Observation of a Grain Boundary Related Growth Mode in Thin Film Reactions

M. Seibt, S. Buschbaum, U. Gnauert, and W. Schröter
Physical Review Letters 80 (4) 774 (1998)
https://doi.org/10.1103/PhysRevLett.80.774