Journal de Physique IV

Optical Emission Analysis of a Si(CH₃)₄-Argon Radio Frequency Plasma for SiC Films Deposition

M. Andrieux, J.M. Badie, C. Bisch, M. Ducarroir et F. Teyssandier

J. Phys. IV France, 05 C5 (1995) C5-607-C5-614

DOI: 10.1051/jphyscol:1995572

M. Andrieux

J.M. Badie

C. Bisch

M. Ducarroir

F. Teyssandier

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