Journal de Physique IV

Reactor Modelling and Analysis of Amorphous Hydrogenated Silicon Deposition by PECVD

A. Djelloul, B. Despax, J.P. Couderc et P. Duverneuil

J. Phys. IV France, 05 C5 (1995) C5-307-C5-314

DOI: 10.1051/jphyscol:1995536

A. Djelloul

B. Despax

J.P. Couderc

P. Duverneuil

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