Journal de Physique IV

Preparation and characterization of HfO₂ thin films by photo-assisted MOCVD

T. Kanashima, T. Tada et M. Okuyama

J. Phys. IV France, 132 (2006) 279-283

Publié en ligne : 11 mars 2006

DOI: 10.1051/jp4:2006132053

T. Kanashima

T. Tada

M. Okuyama

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