Journal de Physique IV

Étude de la contribution de la diffusion simple et multiple à l'amplitude des atomes voisins du silicium dans SiO₂ : application à un granulat soumis à la réaction alcali-silice

F. Boinski, L. Khouchaf, J. Verstraete et M.H. Tuilier

J. Phys. IV France, 118 (2004) 277-281

DOI: 10.1051/jp4:2004118032

F. Boinski

L. Khouchaf

J. Verstraete

M.H. Tuilier

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