Journal de Physique IV

Low pressure chemical vapor deposition of silicon oxynitride films using tetraethylorthosilicate, dichlorosilane and ammonia mixtures

V. Em. Vamvakas, R. Berjoan, S. Schamm, D. Davazoglou et C. Vahlas

J. Phys. IV France, 11 PR3 (2001) Pr3-231-Pr3-238

DOI: 10.1051/jp4:2001329

V. Em. Vamvakas

R. Berjoan

S. Schamm

D. Davazoglou

C. Vahlas

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