Journal de Physique IV

Remote plasma metalorganic chemical vapor deposition of GaN epilayers

M. Losurdo, P. Capezzuto et G. Bruno

J. Phys. IV France, 09 PR8 (1999) Pr8-799-Pr8-804

DOI: 10.1051/jp4:19998101

M. Losurdo

P. Capezzuto

G. Bruno

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