Journal de Physique IV

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Electrical properties of ferroelectric SrBi₂Ta₂O₉ thin films deposited on MOCVD-Pt/SiO₂/Si substrates by plasma-enhanced metalorganic chemical vapor deposition

N.-J. Seong et S.-G. Yoon

J. Phys. IV France, 08 PR9 (1998) Pr9-255-Pr9-260

DOI: 10.1051/jp4:1998950

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