Journal de Physique IV

Electrical properties of interlevel deposited oxides related to polysilicon preparation

C. COBIANU, O. POPA et D. DASCALU

J. Phys. IV France, 03 C3 (1993) C3-467-C3-473

DOI: 10.1051/jp4:1993365

C. COBIANU

O. POPA

D. DASCALU

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