Journal de Physique IV

Effect of CVD process parameters on phase and chemical composition of BSCCO thin films

V.N. FUFLYIGIN, A.R. KAUL et S.A. POZIGUN

J. Phys. IV France, 03 C3 (1993) C3-361-C3-366

DOI: 10.1051/jp4:1993349

V.N. FUFLYIGIN

A.R. KAUL

S.A. POZIGUN

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