Journal de Physique IV

Process characterization for LPCVD TEOS-ozone based SiO₂ films

L. ZANOTTI, S. ROJAS, F. DOGHIERI et F. SANTARELLI

J. Phys. IV France, 03 C3 (1993) C3-337-C3-343

DOI: 10.1051/jp4:1993346

L. ZANOTTI

S. ROJAS

F. DOGHIERI

F. SANTARELLI

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